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详细介绍
| 品牌 | 中图仪器 | 产地 | 国产 |
|---|---|---|---|
| 加工定制 | 否 |
中图仪器WD4000晶圆膜厚测量机——非接触+三维微纳形貌一体测量,赋能超精密加工检测。

核心价值:1台设备搞定厚度、三维形貌、粗糙度全参数测量,告别多设备繁琐配合,兼顾高精度与高效率,适配多行业超精密检测需求。
1、非接触测量:避免划伤碳化硅、蓝宝石、硅等精密工件表面,保护待测物完整性。
2、一体集成设计:无需多台设备切换,同步完成厚度、TTV、LTV、BOW、WARP、粗糙度及三维形貌测量,节省场地与投入成本。
1、高精度测量,数据可靠
(1)光谱共焦对射技术+白光干涉技术,Z向分辨率达0.1nm,亚纳米级局部高度测量,满足纳米到微米级工件检测需求。
(2)支持SEMI/ISO/ASME/EUR/GBT四大标准300余种参数评价,测量结果可追溯。
2、大行程高速,适配多规格工件
(1)400x400x75mm大行程龙门结构,最大移动速度500mm/s,检测效率翻倍。
(2)兼容最大12寸晶圆,搭配静电放电涂层真空吸盘,适配光滑/粗糙、低/高反射率等多种表面工件。
3、稳定抗干扰,操作无忧
(1)花岗岩基座+隔振设计,抵御地面与声波振动,测量重复性优异。
(2)双重防撞+电动物镜切换+XYZ操纵手柄,简化操作流程,降低误操作风险,减少培训成本。
4、智能自动化,适配工业流水线
(1)Mapping跟随技术+机器视觉Mark点定位,支持多点、线、面自动测量,CNC模式兼容扫码枪输入。
(2)虚拟夹具摆正样品,可实现多点形貌连续自动化检测,适配批量生产场景。
1、全功能测量与分析
(1)覆盖厚度、三维形貌、粗糙度、几何轮廓等核心测量需求,支持台阶高、角度、曲率等特征量测及形位公差评定。
(2)内置五大分析???,含ISO标准全参数粗糙度分析、孔洞体积统计、频率分析等,满足深度检测需求。
2、高效数据管理
(1)集中管理测量记录,支持按工件型号、检测日期、识别码等多维度查询,追溯便捷。
(2)支持TXT报表导入待测点位,无需手动录入,提升检测效率。
3、灵活输出与对接
(1)输出Excel/Word/TXT/SPC报表,附带Mapping图、控制图及CA/PPK/CPK等统计值,满足质量管控需求。
(2)兼容SECS/MES传输,支持定制远程数据对接,无缝融入工厂现有生产系统。

WD4000晶圆膜厚测量机可用于衬底制造、晶圆制造、封装工艺检测、3C电子玻璃屏及精密配件、光学加工、显示面板、MEMS器件等超精密加工领域。
| 品牌 | CHOTEST中图仪器 |
| 型号 | WD4000系列 |
| 测量参数 | 厚度、TTV(总体厚度变化)、BOW、WARP、LTV、粗糙度等 |
| 可测材料 | 砷化镓、氮化镓、磷化镓、锗、磷化铟、 铌酸锂、蓝宝石、硅、碳化硅、氮化镓、玻璃、外延材料等 |
| 厚度和翘曲度测量系统 | |
| 可测材料 | 砷化镓 ;氮化镓 ;磷化 镓;锗;磷化铟;铌酸锂;蓝宝石;硅 ;碳化硅 ;玻璃等 |
| 测量范围 | 150μm~2000μm |
| 扫描方式 | Fullmap面扫、米字、自由多点 |
| 测量参数 | 厚度、TTV(总体厚度变 化)、LTV、BOW、WARP、平面度、线粗糙度 |
| 三维显微形貌测量系统 | |
| 测量原理 | 白光干涉 |
| 干涉物镜 | 10X(2.5X、5X、20X、50X,可选多个) |
| 可测样品反射率 | 0.05%~100 |
| 粗糙度RMS重复性 | 0.005nm |
| 测量参数 | 显微形貌 、线/面粗糙度、空间频率等三大类300余种参数 |
| 膜厚测量系统 | |
| 测量范围 | 90um(n= 1.5) |
| 景深 | 1200um |
| 最小可测厚度 | 0.4um |
| 红外干涉测量系统 | |
| 光源 | SLED |
| 测量范围 | 37-1850um |
| 晶圆尺寸 | 4"、6"、8"、12" |
| 晶圆载台 | 防静电镂空真空吸盘载台 |
| X/Y/Z工作台行程 | 400mm/400mm/75mm |
恳请注意:因市场发展和产品开发的需要,本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改,恕不另行通知,不便之处敬请谅解。
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